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臺積電正式啟動2nm建廠計劃

2019-09-19

據悉,工廠設置在位于臺灣新竹的南方科技園,預計2024年投入生產,時間節奏上還是相當的快。按照臺積電給出的指標,2nm工藝是一個重要節點,Metal Track(金屬單元高度)和3nm一樣維持在5x,同時Gate Pitch(晶體管柵極間距)縮小到30nm,Metal Pitch(金屬間距)縮小到20nm,相比于3nm都小了23%。
臺積電沒有透露2nm工藝所需要的技術和材料,看晶體管結構示意圖和目前并沒有明顯變化,能在硅半導體工藝上繼續壓榨到如此地步真是堪稱奇跡,接下來就看能不能做到1nm了。
當然,在那之前,臺積電還要接連經歷7nm+、6nm、5nm、3nm等多個工藝節點。
其中,7nm+首次引入EUV極紫外光刻技術,目前已經投入量產;6nm只是7nm的一個升級版,明年第一季度試產;5nm全面導入極紫外光刻,已經開始風險性試產,明年底之前量產,蘋果A14、AMD五代銳龍(Zen 4都有望采納)。
按照臺積電的說法,2nm工藝研發需時4年,最快也得要到2024年才能進入投產。這段時間里5nm工藝乃至3nm工藝均會成為過渡產品,以供客戶生產芯片的需要。
丝瓜视频污版,香蕉频蕉app官网下载此外,談到3nm工藝時,臺積電表示其第一家3nm工廠位于臺灣新竹,預計2021年投產,2022年將批量生產。

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