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光刻機翻新改造

公司擁有光刻機翻新改造的核心技術和能力。
針對8寸及以下的不同硅片尺寸(包括特殊材質襯底如碳化硅、氮化鎵、藍寶石等)、不同掩模版尺寸的要求,可實現自主設計、加工制造、集成調整的改造能力。
對光刻整機系統能夠進行包括光學系統在內的全面翻新、調試、測試,具備完整的運行保障能力,包括備品備件供應等。
技術能力和技術資源覆蓋ASML、Nikon兩家公司的光刻機,技術水平可以達到193nm波長90nm的8寸/12寸光刻機。
針對不同特性的產品(如MEMS、COMS、PSS、IC等),公司在關鍵工藝技術方面具備相深刻理解設備的工藝人才資源和技術基礎,能夠按照不同的產品特性進行設備選型、技術匹配及工藝試驗。
能夠根據市場實際產品指標需求進行快速工藝設備參數的調整與匹配。

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